XEANOVA

在线卧式镀膜系统

如果您正寻找采用成熟的技术和设计且高产、灵活的生产系统，XEANOVA L 是您的理想之选。

此在线镀膜系统采⽤我们的专利镀膜技术，适⽤于⼤⾯积基材。XEANOVA L宽度⼤，可同时处理多片基⽚，因此特别适⽤于⾼⽣产率和低成本的应用场景。通过 XEANOVA L，您可对硅⽚或其他⼩型基⽚同时进⾏双⾯镀膜。同时还适用于超薄基材加工。

凭借其模块化设计，XEANOVA L 可配备旋转磁控管，用于溅射沉积高性能 TCO 膜层或各种其它材料，诸如金属和金属氧化物。它还可适配其他沉积技术。基材还可在系统内通过真空清洗、刻蚀等方式进行预处理，或在进入真空腔前完成预处理。

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