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VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.
Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA
双阳极溅射 (DAS) 是一种经过工业验证的镀膜技术。它可应用于使用氧化铌 (NbOx)、氧化钛 (TiOx) 或本征氧化锡 (i-ZnO) 等材料的陶瓷工艺,例如显示器和光伏行业中。DAS 方法能够保证阳极的良好可用性,因为即使在溅射电介质时,也会定期清洁阳极。
DAS 技术使我们能够从常用的 AC-MF 模式转向工艺的直流供电,从而大大减少基片上的热负荷。通过应用具有反应过程控制的 DAS 溅射,可以实现过渡区域中的高沉积速率。这是一个明显的改进,特别是对于二氧化硅 (SiO2) 和氧化铝 (AlOx) 的沉积。
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Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
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