经验与创新的结合通过功能性镀膜的技术能力

表面和接口的特性通常对部件或产品的功能具有决定性作用。这些特性可以通过涂层进行特定的改性。通常，镀膜必须只有几个原子层厚才能发挥作用。这些镀膜必须具有非常均匀的结构，且不含杂质。而这只能通过在真空条件下沉积来得以实现。

冯·阿登纳在物理气相沉积 (PVD) 工艺方面具有丰厚的专业知识。镀膜材料被转移到蒸汽流中，并在部件上凝结为粘合剂层。材料、组成、结构和厚度影响整个部件的电学、光学、化学、热学或机械特性。 

从 20 世纪 50 年代开始，冯阿登纳就开始涉足电子束蒸发技术的开发。而在 20 世纪 70 年代的磁控溅射技术开发中，冯阿登纳同样发挥了先锋作用。

这两种工艺仍然是我们镀膜系统中最重要的技术。这是因为它们的用途非常广泛，并且已经得到了工业验证。 

此外，冯阿登纳集团的其他技术，例如离子束工艺或电弧蒸发以及化学气相沉积工艺（PECVD 或 ALD），都可以集成到公司的镀膜系统中。

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