表面和接口的特性通常对部件或产品的功能具有决定性作用。这些特性可以通过涂层进行特定的改性。通常,镀膜必须只有几个原子层厚才能发挥作用。这些镀膜必须具有非常均匀的结构,且不含杂质。而这只能通过在真空条件下沉积来得以实现。
冯·阿登纳在物理气相沉积 (PVD) 工艺方面具有丰厚的专业知识。镀膜材料被转移到蒸汽流中,并在部件上凝结为粘合剂层。材料、组成、结构和厚度影响整个部件的电学、光学、化学、热学或机械特性。
从 20 世纪 50 年代开始,冯阿登纳就开始涉足电子束蒸发技术的开发。而在 20 世纪 70 年代的磁控溅射技术开发中,冯阿登纳同样发挥了先锋作用。
这两种工艺仍然是我们镀膜系统中最重要的技术。这是因为它们的用途非常广泛,并且已经得到了工业验证。
此外,冯阿登纳集团的其他技术,例如离子束工艺或电弧蒸发以及化学气相沉积工艺(PECVD 或 ALD),都可以集成到公司的镀膜系统中。
如需了解更多详细信息,请单击各项技术。
适用于各个
行业的广泛技术组合
支持客户
扩展技术和工艺
在我们自己的技
术应用中心进行产品功能测试和打样
San Francisco Bay Area
Booth: 4 / E30
Landesmesse Stuttgart
Booth: 12 / 12C55
Messe Düsseldorf
Carlowitz Congresscenter Chemnitz
Theaterstraße 3
09111 Chemnitz
Booth: Stand C2-453
Messe München
Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA