打样和膜层开发
齐全的设备

在我们的技术和应用中心,我们与您携手合作,服务于您的下一代镀膜应用。

从模拟膜系及其功能,到进行实验室和中试规模的样品生产,再到测量和评估镀膜和基片性能,我们能够满足您的众多要求。这使您有机会提前根据相关样品尺寸测试产品镀膜的功能。

我们还提供在设备交付期间继续进行产品开发的机会,凭借过程的相似性,可以轻松地从实验室转移到生产中。为此,镀膜系统可用于各种基片,例如玻璃、聚合物薄膜、金属带和硅晶片。在基本测试中,我们对较小的基片使用非常灵活的实验室系统,以便能够快速定义适当的参数窗口。

随后,我们会在自己的在线系统上对较大的基片进行试验,这通常使我们能够确定您的工艺序列对产品的适配性。在此过程中,还可以根据客户或 DIN 标准对样品的稳定性、耐腐蚀性、粘合强度和耐化学性开展进一步研究。

如需了解更多详细信息,请随时联系我们。

通过模拟

 膜层组成和特性来加深了解

单一来源

的打样和特性鉴定

有针对性地

将镀膜步骤整合到您的价值链中

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