为功能层奠定基础通过预处理实现
采用基于热或基于等离子体的方法
预处理部件
获得清洁、具有粘合活性的基片表面
表面处理通常用作预处理，以清洁、去除或活化顶层。预处理还用于形成待沉积层的优异界面。
这是必要的，因为基片表面通常并不清晰。还存在各种残留物，例如基片材料的氧化物和氢氧化物、水、吸附的气体以及先前工艺中残留的杂质。这些因素会妨碍可靠的机械或功能层沉积。
这里采用的是基于热或基于等离子体的工艺，在镀膜前立即在真空中去除表面残留的有机杂质或水分子。
根据材料或污染程度，表面镀膜会因温度影响而蒸发。或者它们实际上被离子轰击去除。
如需了解更多详细信息，请点击各个部件或直接联系我们。
联系信息
22.09.2025 - 26.09.2025
EUPVSEC Bilbao 2025
Bilbao, Spain
Bilbao Exhibition Center
F12 / Level 3
28.09.2025 - 01.10.2025
Titanium Boston 2025
Boston, MA, USA
07.10.2025 - 09.10.2025
Semicon West 2025
Phoenix, AZ, USA
Phoenix Convention Center
Booth 6180
13.10.2025 - 16.10.2025
V2025 International Conference and Exhibition for Vacuum
Dresden, Germany
International Congress Center
Booth F3
21.10.2025 - 23.10.2025
Hydrogen Technology Expo Hamburg 2025
Hamburg, Germany
Exhibition Center Hamburg
B7 / 7C71
VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.
Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA