提高产量在反应溅射中
通过高度灵活的过程控制系统
VA PROCOS2
控制化合物层的反应溅射
VA PROCOS 2 是一款模块化过程控制系统，专门设计用于在关键过渡模式下稳定反应溅射工艺。
它适用于通过光发射线、阴极电压、氧分压、其组合以及其他 PLC 信号进行过程表征。
此外，它还可用于稳定等离子体放电，从而稳定产品特性。这通过调节一种或多种反应气体的供应来实现。
自 1980 年以来，冯阿登纳一直是反应溅射工艺领域的领导者。此外，我们多年来一直提供过程控制系统 VA PROCOS，并不断对其进行优化。
我们当前的系统 VA PROCOS 2 控制复合层的反应磁控溅射，并在关键过渡区提供可靠的工作点稳定性。该系统还能可靠地控制用于反应性气体的一个或多个入口。
如需了解更多详细信息，请查看宣传手册或直接联系我们。
益处
可靠：经过行业验证的控制，
适用于所有常见膜层系统的反应溅射
可通过外部部件轻松配置，
适用于所有反应溅射应用
易于集成：
设计用于任何溅射设备
联系信息
暂无消息
VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.
Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA
Chase Han
Deputy Head of SalesVON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.