提高产量在反应溅射中
通过高度灵活的过程控制系统
VA PROCOS2
控制化合物层的反应溅射
VA PROCOS 2 是一款模块化过程控制系统，专门设计用于在关键过渡模式下稳定反应溅射工艺。
它适用于通过光发射线、阴极电压、氧分压、其组合以及其他 PLC 信号进行过程表征。
此外，它还可用于稳定等离子体放电，从而稳定产品特性。这通过调节一种或多种反应气体的供应来实现。
自 1980 年以来，冯阿登纳一直是反应溅射工艺领域的领导者。此外，我们多年来一直提供过程控制系统 VA PROCOS，并不断对其进行优化。
我们当前的系统 VA PROCOS 2 控制复合层的反应磁控溅射，并在关键过渡区提供可靠的工作点稳定性。该系统还能可靠地控制用于反应性气体的一个或多个入口。
如需了解更多详细信息，请查看宣传手册或直接联系我们。
益处
可靠：经过行业验证的控制，
适用于所有常见膜层系统的反应溅射
可通过外部部件轻松配置，
适用于所有反应溅射应用
易于集成：
设计用于任何溅射设备
联系信息
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Deputy Head of SalesVON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.