剥离工艺
用于金属化的真空镀膜设备

每个电气系统都需要电气连接。后道应用中，通过将二维薄膜工艺与先前的光刻掩模相结合，创建这些电气连接。

可以说，掩模区域在镀膜后去除、剥离。这可以非常有效地创建小结构。先决条件是，合适的层特性和对相关区域的良好覆盖，以及对光致抗蚀剂没有损害。

对于这些工艺，我们为您提供用于金属化的真空镀膜系统。这些系统适用于不同金属的沉积溶液，以实现不同的应用，带有或不带有助粘剂，并经过温度处理。

如需了解更多详细信息，请点击以下各种产品或直接联系我们。

设备配置灵活，

轻松适应新的工艺和要求

设计紧凑，

节省占地空间

良好的剥离性能，

得益于最佳的膜层特性

设备
Perspektivische Darstellung eines VON ARDENNE Clustersystems.
Cluster Systems用于研发和生产了解更多
Perspektivische Darstellung einer vertikalen VON ARDENNE Beschichtungsanlage.
VISS垂直镀膜系统了解更多
技术
测控溅射来自内部开发和制造的核心技术了解更多
洁净室
冯阿登纳的洁净室
洁净室配备了取样与组装设施

专为精密光学、光子学及半导体应用设计

  • 真空镀膜系统制造
  • 样品试制与镀膜试验服务
  • 600平方米半导体洁净室（含AMC控制能力）
支持

工程服务
模拟 . 样和开发服务. 机器布局

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Perspektivische Darstellung einer VON ARDENNE Versuchsanlage.

技术和应用中心
打样和膜层开发

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服务
在线客户门户 . 备件和易损件 . 培训

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20.01.2026 - 22.01.2026
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13.10.2026 - 15.10.2026
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Moscone Center

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VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

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201602 上海
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Chase Han

Deputy Head of SalesVON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

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