剥离工艺
用于金属化的真空镀膜设备

每个电气系统都需要电气连接。后道应用中，通过将二维薄膜工艺与先前的光刻掩模相结合，创建这些电气连接。

可以说，掩模区域在镀膜后去除、剥离。这可以非常有效地创建小结构。先决条件是，合适的层特性和对相关区域的良好覆盖，以及对光致抗蚀剂没有损害。

对于这些工艺，我们为您提供用于金属化的真空镀膜系统。这些系统适用于不同金属的沉积溶液，以实现不同的应用，带有或不带有助粘剂，并经过温度处理。

如需了解更多详细信息，请点击以下各种产品或直接联系我们。

轻松适应新的工艺和要求

节省占地空间

得益于最佳的膜层特性

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07.10.2025 - 09.10.2025

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VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

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