冯阿登纳总部新洁净室正式启用

9月25日，冯阿登纳（VON ARDENNE）正式启用一座先进的洁净室，并邀请合作伙伴及行业领袖共同见证这一里程碑时刻。

我们的洁净室面积达700平方米，按最高标准设计，包含ISO 5级和ISO 7级洁净区，是精密样品制备、系统组装与调试的理想场所，为攻克半导体技术、材料科学及医疗应用领域的复杂挑战提供了极优的环境。

半导体应用领域需依托新型材料与创新形态持续推动技术革新、突破行业边界。冯阿登纳凭借在工艺与材料领域的专业积淀，成为新型材料研发及产业化的核心推动者，为客户产品开发提供全方位支持。

洁净室将率先配备全新OPTA X300沉积系统，预计2026年年中投入使用，用于材料与器件联合研发。冯阿登纳将提供全流程服务，涵盖膜层及功能模拟、实验室与中试规模样品制备、膜层及器件性能测试与评估，助力客户在实际工艺链环境中提前验证镀膜产品的功能表现。

当前，高精度光学镀膜以及压电材料、存储材料的市场需求日益增长，新洁净室及配套设备将有效加速此类材料的研发进程。

冯阿登纳半导体业务副总裁斯文·弗劳恩斯坦（Sven Frauenstein）表示：“我们期待在这一尖端环境中与合作伙伴深化协作，共同推动下一代半导体应用的创新发展。”