VA PROCOS 2
用于反应溅射的过程控制系统

VA PROCOS 2 是一款模块化过程控制系统，专门设计用于在关键过渡模式下稳定反应溅射工艺。

它适用于通过光发射线、阴极电压、氧分压、其组合以及其他 PLC 信号进行过程表征。

此外，它还可用于稳定等离子体放电，从而稳定产品特性。这通过调节一种或多种反应气体的供应来实现。

自 1980 年以来，冯阿登纳一直是反应溅射工艺领域的领导者。此外，我们多年来一直提供过程控制系统 VA PROCOS，并不断对其进行优化。

我们当前的系统 VA PROCOS 2 控制复合层（如 ITO、TiO2、TiN、Al2、O3、AlN、SnO2、SiO2、Si3N4、ZnO、ZrO 或 Ta2O5）的反应磁控溅射，并在关键过渡区提供可靠的工作点稳定性。该系统还能可靠地控制用于反应性气体（例如氧氮化物）的一个或多个入口。

如需了解更多详细信息，请查看以下内容或直接联系我们。

适用于所有常见膜层系统的反应溅射

轻松配置

设计用于任何溅射设备

媒体

暂无消息

联系信息

17.03.2026 - 19.03.2026

H2 & FC Expo Tokio 2026

Tokyo, Japan

Tokyo Big Sight

07.04.2026 - 10.04.2026

China Glass 2026

Shanghai, China

Shanghai New International Expo Center

N1 / 181

07.05.2026 - 09.05.2026

TiExpo 2026

Shanghai, China

National Exhibition and Convention Center

A006

05.07.2026 - 10.07.2026

SPIE Astronomical Telescopes + Instrumentation 2026

Copenhagen, Denmark

02.09.2026 - 04.09.2026

Semicon Taiwan 2026

Taipeh, Taiwan

Silicon Saxony Pavilion

VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA

服务联系人 SERVICE Contact VAVE

松江区强业路 801 号 7 号厂房
201602 上海
中国

Chase Han

Deputy Head of SalesVON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.