VA PROCOS 2
用于反应溅射的过程控制系统

VA PROCOS 2 是一款模块化过程控制系统，专门设计用于在关键过渡模式下稳定反应溅射工艺。

它适用于通过光发射线、阴极电压、氧分压、其组合以及其他 PLC 信号进行过程表征。

此外，它还可用于稳定等离子体放电，从而稳定产品特性。这通过调节一种或多种反应气体的供应来实现。

自 1980 年以来，冯阿登纳一直是反应溅射工艺领域的领导者。此外，我们多年来一直提供过程控制系统 VA PROCOS，并不断对其进行优化。

我们当前的系统 VA PROCOS 2 控制复合层（如 ITO、TiO2、TiN、Al2、O3、AlN、SnO2、SiO2、Si3N4、ZnO、ZrO 或 Ta2O5）的反应磁控溅射，并在关键过渡区提供可靠的工作点稳定性。该系统还能可靠地控制用于反应性气体（例如氧氮化物）的一个或多个入口。

如需了解更多详细信息，请查看以下内容或直接联系我们。

可靠且经过行业验证的控制，

适用于所有常见膜层系统的反应溅射

可通过适用于所有反应溅射应用的外部部件

轻松配置

易于集成：

设计用于任何溅射设备

Perspektivische Darstellung eines VON ARDENNE Prozesskontrollsystems VAprocos.
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