用于反应溅射的巡航控制以最佳工作点提高产量
通过自动临界点控制
VA TIPCOS
临界点的本地确定和执行
VA TIPCOS 使您能够自动确定临界点。它将工作点
设置为接近临界点，以确保反应溅射工艺中的最佳沉积速率。
此外，VA TIPCOS 可以监控单个磁控管或一组具有相同工艺参数和相同靶材料的相邻磁控管的反应工艺设置。
如需了解更多详细信息，请查看以下内容或直接联系我们。
Your Challenge - Our Solution
Your Challenge - Our Solution
如何
益处
通过将单位产
品的能耗降低来提高资源效率
产品性能和工艺稳定，
工艺良率高
支持生产
线的最大速度
联系信息
20.01.2026 - 22.01.2026
SPIE Photonics West 2026
San Francisco, CA, USA
The Moscone Center
Booth 2261
17.03.2026 - 19.03.2026
H2 & FC Expo Tokio 2026
Tokyo, Japan
Tokyo Big Sight
13.10.2026 - 15.10.2026
Semicon West 2026
San Francisco, CA, USA
Moscone Center
North Hall | Booth 5373
VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.
Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
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