VA TIPCOS
临界点的本地确定和执行
VA TIPCOS 使您能够自动确定临界点。它将工作点
设置为接近临界点,以确保反应溅射工艺中的最佳沉积速率。
此外,VA TIPCOS 可以监控单个磁控管或一组具有相同工艺参数和相同靶材料的相邻磁控管的反应工艺设置。
如需了解更多详细信息,请查看以下内容或直接联系我们。
通过将单位产
品的能耗降低来提高资源效率
产品性能和工艺稳定,
工艺良率高
支持生产
线的最大速度
Baoji, China
International Conference & Exhibition Center
B/360
San Diego, CA, USA
Town & Country Resort
Presentation
Peking, China
China International Exhibition Center
E1 / 121
Munich, Germany
Exhibition Center Munich
B.4160
Boston, MA, USA
Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
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Deputy Head of SalesVON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.