用于反应溅射的巡航控制以最佳工作点提高产量
通过自动临界点控制
VA TIPCOS 使您能够自动确定临界点。它将工作点
设置为接近临界点,以确保反应溅射工艺中的最佳沉积速率。
此外,VA TIPCOS 可以监控单个磁控管或一组具有相同工艺参数和相同靶材料的相邻磁控管的反应工艺设置。
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品的能耗降低来提高资源效率
工艺良率高
线的最大速度
Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA