磁棒
用于可旋转磁控管

在薄膜镀膜应用中，当使用溅射作为沉积方法时，磁场具有重要的作用。磁场会显著影响镀膜均匀性和镀膜特性等镀膜结果。

除了镀膜结果之外，磁场对单位镀膜面积的成本也有重大影响。高质量的磁场可以通过靶材料的高利用率来支持较长的活动时间。

冯阿登纳磁棒采用最先进的技术。我们已在镀膜应用的各个领域安装了 2000 多台。

在磁棒的开发过程中，我们重点关注靶材腐蚀、膜层均匀性、工艺稳定性和应用相关的场强。

它们有各种强度和长度可供选择，并在我们的内部设施中进行质量控制检查。

如需了解更多详细信息，请查看宣传手册或直接联系我们。

延长活动持续时间

可以使得膜层均匀性达到市场较高水平。

获得最佳的镀膜特性

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VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA

Ronny Borchel

Product Manager Plasma ComponentsVON ARDENNE GmbH

服务联系人 SERVICE Contact VAVE

松江区强业路 801 号 7 号厂房
201602 上海
中国

Chase Han

Deputy Head of SalesVON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.