高利用率平面阴极
用于采用平面靶材的溅射工艺

在建筑和汽车玻璃等应用中,磁控溅射是沉积光学薄膜的成熟且极为经济的方法。这项技术在大约 40 年前应用于玻璃行业。

它的成功和行业突破源于平面磁控管的开发,可镀膜宽度高达 3.2 米。

今天,我们可以为您提供适合各种应用和靶材尺寸的平面阴极。值得您的信赖的是,我们始终专注于实现高生产率和优异的膜层特性。

如需了解更多详细信息,请查看以下内容或直接联系我们。

凭借尽可能高的靶材利用率,

延长正常运行时间

通过优化磁场,

实现市场上优异的镀膜均匀性

与圆柱形阴极相比,

通过更简单的制造方法降低靶材成本

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