高利用率平面阴极
用于采用平面靶材的溅射工艺

在建筑和汽车玻璃等应用中,磁控溅射是沉积光学薄膜的成熟且极为经济的方法。这项技术在大约 40 年前应用于玻璃行业。

它的成功和行业突破源于平面磁控管的开发,可镀膜宽度高达 3.2 米。

今天,我们可以为您提供适合各种应用和靶材尺寸的平面阴极。值得您的信赖的是,我们始终专注于实现高生产率和优异的膜层特性。

如需了解更多详细信息,请查看宣传手册或直接联系我们。

凭借尽可能高的靶材利用率,

延长正常运行时间

通过优化磁场,

实现市场上优异的镀膜均匀性

与圆柱形阴极相比,

通过更简单的制造方法降低靶材成本

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VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA

Ronny Borchel

Product Manager Plasma ComponentsVON ARDENNE GmbH

服务联系人 SERVICE Contact VAVE

松江区强业路 801 号 7 号厂房
201602 上海
中国

Chase Han

Deputy Head of SalesVON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.

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