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VON ARDENNE Vacuum Equipment (Shanghai) Co., Ltd.
Plant 7, No 801 Qiangye Road, Songjiang District
201602 SHANGHAI
PR CHINA
高利用率平面阴极
用于采用平面靶材的溅射工艺
在建筑和汽车玻璃等应用中，磁控溅射是沉积光学薄膜的成熟且极为经济的方法。这项技术在大约 40 年前应用于玻璃行业。
它的成功和行业突破源于平面磁控管的开发，可镀膜宽度高达 3.2 米。
今天，我们可以为您提供适合各种应用和靶材尺寸的平面阴极。值得您的信赖的是，我们始终专注于实现高生产率和优异的膜层特性。
如需了解更多详细信息，请查看宣传手册或直接联系我们。
凭借尽可能高的靶材利用率，
延长正常运行时间
通过优化磁场，
实现市场上优异的镀膜均匀性
与圆柱形阴极相比，
通过更简单的制造方法降低靶材成本