OPTA X

转盘式镀膜系统

OPTA X 是一款专为高要求双面镀膜工艺设计的系统，尤其适用于多层光学膜系（含大量交替层）以及存储器、传感器和光子器件领域的新型材料镀膜。

OPTA X 的核心特性在于：

-水平式镀膜架构：标配创新的CARS工艺技术实现最优镀膜效果，同时兼容Meta Mode、反应/非反应溅射等多种工艺方案  
-灵活配置：每侧镀膜面最多可集成5个磁控溅射靶或等离子体源。
-实时监控：配备原位测量技术，光学监测镀膜工艺过程并实时修正。
-自动化处理：模块化设计的自动传输系统，配备标准载入接口及洁净室兼容软件架构。
-卓越的基材适应性，支持300mm晶圆及多种异形基材，采用可定制载具实现多样化基材传输。

根据工艺和生产率要求，也可以组合不同的模块类型。例如，多个工艺腔室或增加预处理和后处理。

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