OPTA X
转盘式镀膜系统

OPTA X 是一款专为高要求双面镀膜工艺设计的系统,尤其适用于多层光学膜系(含大量交替层)以及存储器、传感器和光子器件领域的新型材料镀膜。

OPTA X 的核心特性在于:

-水平式镀膜架构:标配创新的CARS工艺技术实现最优镀膜效果,同时兼容Meta Mode、反应/非反应溅射等多种工艺方案  
-灵活配置:每侧镀膜面最多可集成5个磁控溅射靶或等离子体源。
-实时监控:配备原位测量技术,光学监测镀膜工艺过程并实时修正。
-自动化处理:模块化设计的自动传输系统,配备标准载入接口及洁净室兼容软件架构。
-卓越的基材适应性,支持300mm晶圆及多种异形基材,采用可定制载具实现多样化基材传输。

根据工艺和生产率要求,也可以组合不同的模块类型。例如,多个工艺腔室或增加预处理和后处理。

 

如需了解更多详细信息,请查看以下内容或直接联系我们。

精密镀膜品质

快速、洁净、低缺陷、高均匀性的镀膜工艺

抗翘曲效应

通过异质材料双面沉积实现应力平衡 

工艺可定制化

支持多层膜系、复合膜层及特殊器件结构的镀膜需求

洁净室
冯阿登纳的洁净室
洁净室配备了取样与组装设施

专为精密光学、光子学及半导体应用设计

  • 真空镀膜系统制造
  • 样品试制与镀膜试验服务
  • 600平方米半导体洁净室(含AMC控制能力)
支持
媒体
冯阿登纳总部新洁净室正式启用

用于样品制作、组装和调试的最先进环境

VON ARDENNE Launches New OPTA X300 Deposition Tool and Opens New Cleanrooms in Dresden, Germany

Company showcases its advanced engineering capabilities and new deposition solutions at SEMICON West

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