OPTA X

转盘式镀膜系统

OPTA X 是一套可满足严苛光学膜层系统要求的系统。对于大量多层交替膜层光学器件来说尤其如此。

该系统采用水平式镀膜。OPTA X 采用特殊的 CARS 工艺技术，实现最佳镀膜。此外，该系统还可提供其他工艺设计，诸如元模式、反应溅射或非反应溅射。

磁控管和/或等离子源可集成在最多五个端口（每个镀膜面）上。用于跟踪和校正镀膜工艺的原位测量技术还可用于光学监控。

该系统具有采用模块化设计的自动处理系统。它使 OPTA X 能够安全地装载不同的基片，这些基片在可调整的载体中输送通过系统。除了直径为 200 毫米的基底外，OPTA X 还适用于直径达 300 毫米的基底。

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