磁棒
用于可旋转磁控管

在薄膜镀膜应用中，当使用溅射作为沉积方法时，磁场具有重要的作用。磁场会显著影响镀膜均匀性和镀膜特性等镀膜结果。

除了镀膜结果之外，磁场对单位镀膜面积的成本也有重大影响。高质量的磁场可以通过靶材料的高利用率来支持较长的活动时间。

冯阿登纳磁棒采用最先进的技术。我们已在镀膜应用的各个领域安装了 2000 多台。

在磁棒的开发过程中，我们重点关注靶材腐蚀、膜层均匀性、工艺稳定性和应用相关的场强。

它们有各种强度和长度可供选择，并在我们的内部设施中进行质量控制检查。

如需了解更多详细信息，请查看宣传手册或直接联系我们。

Plasma Components

延长活动持续时间

可以使得膜层均匀性达到市场较高水平。

获得最佳的镀膜特性

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